盛美上海：首臺PECVD SiCN設(shè)備順利出機
2026-04-27 09:01
4月27日，盛美上海宣布，其首臺等離子體增強化學(xué)氣相沉積（PECVD）碳氮化硅（SiCN）設(shè)備已正式出機。該設(shè)備旨在支持55納米及以下高端IC工藝的后段金屬互聯(lián)工藝應(yīng)用中的PECVD NDC (SiCN)工藝，應(yīng)用場景包括銅氧化抑制、銅擴散阻擋層及刻蝕停止層。
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